http://www.megratec.ru/download/160/?theme=2281&

Рассмотрены не только вопросы работы в HyperLynx, но и практические советы в решении проблем целостности сигналов и ЭМС

Хороший перевод.
Хотя и до это все было понятно, листая перевод обратил внимание на некоторые детали, которые неосознанно опускал, при чтении документации.
HL наверное единственная программа обладающая интуитивным интерфейсом и адекватной производительностью. Программистам всегда привожу ее в пример.
Как mentor graphics позиционирует этот продукт?
Существует наверное с десяток продуктов по SI (cadence SI, SPEED200, Ansoft SIWave, AWR), даже у самого ментора есть несоклько продуктов класса SI. По интуитивности и простоте HL дает всем фору.
В общем, интересует какие продукты и для каких целей покупают западные и азиатские компании, и как это коррелирует с размером компаний? (российский рынок опустим из рассмотрения).

1. Спасибо. Если при прохождении тренинга встретите какие-либо недочеты, то просьба пришлите мне ссылку - исправлю.
2. По поводу позиционирования:
- Считается наиболее распространенным в мире
- Будет и дальше развиваться, например скоро появится Power Integrity (анализ питания) и CLK (статический временной анализ)
- В менторе рассматривается прежде всего как легкий в изучении анализ SI для PADS и др. систем проектирования
3. К сожалению нигде не нашел информации по соотношению продаж SI в мире.

Было бы просто замечательно! То есть по функционалу продукт поднимется до таких монстров как SpeedXP ? Будет ли анализ совмещенных полигонов питания (Split Planes) ?

Сообщение отредактировал Жека - Nov 7 2006, 11:48

Будет.

Хороший перевод.
Ссылка на данные лаб работ в Mozilla открываются как текст, в IE скачивается нормально.

Спасибо за перевод. Пробовал все но мне понравился больше всего.

нашел распределение долей на рынке продуктов SI

Решил посмотреть на HL. Скачал предлагаемый тренинг.
Поставил HL 7.5. В процессе обнаружил, что некоторые диалоги, приводимые в тренинге в деталях отличаются от того, что вижу я у себя. Из чего сделал вывод, что для создания тренинга была использована другая версия HL. Может это и не очень важно, но все же имело бы смысл где-то в начале тренинга написать об использованной версии HL. Но это так, мелкое пожелание, не более.

Теперь такой вопрос. Беру пример #5-1 (стр.5-7), делаю пошагово все, как написано (с чистого листа), получаю электрические параметры линии:
Z0=83.5 L=74.7 C=10.7 R0=1.006
в то время как в тренинге приведен этот же диалог и:
Z0=78.8 L=69.4 C=11.2 R0=0.335

При этом результаты моделирования на осциллографе визуально такие же, как и в тренинге.
Дальше загружаю файл Lab4_1.tln, в котором уже создана линия с такими же параметрами, на всякий случай делаю такой же стек-ап, как и в примере #5-1, и вижу:
Z0=81.1 L=69.1 C=10.5 R0=0.335
Во всяком случае R0 сошлось с тем, что в тренинге.
Что и где я не учел?
На всякий случай прикрепляю созданный tln
 my.rar ( 790 байт ) Кол-во скачиваний: 198


Еще вопрос, на стр.6-4 написано:

Не нашел, где это делается.

По второму вопросу: все легко делается в free-based, как нарисуете так и будет.
В cell-based расстояние до резистора можно задать только если резистор на стороне нагрузки и паралельный, либо через одну ячейку, для которой задана нужная линия а после нее стоит еще ячейка с резистором в начале и линией до приемника.
По крайней мере в 7.2 и 7.5 для cell только так.

1. Если внимательно посмотрите на картинки в описании, то увидите что версия была 6.
2. Естественно значения(и диалоги) могут расходится в разных версиях, с тех времен произошло много изменений.
3. К сожалению у меня не было времени самому спокойно проделать лабы. Поэтому, если обнаружите какие-либо неточности, то просьба, запишите и потом пришлите мне - исправлю. Или подождите - в марте буду проводить тренинг на одном предприятии - в ходе подготовки и проведении все неточности выявятся и я их исправлю.
4. Полностью перерабатывать этот тренинг (менять данные диалогов и т.п) не буду, т.к. у меня уже лежит новый менторовский тренинг по 7.7 - его и надо будет переводить.

Разобрался сам с этим.
Когда открывается новый лист LineSim, то стек-ап по умолчанию содержит в верхник слоях слой маски, а результат, приведенный в тренинге по R0=0.335 соотвествует металлизированному покрытию.
Хотя опять же в тренинге стека-ап показан как раз с маской.
В общем в тренинге нет акцентов на каких-то мелочах, и получается, что результаты в вычислениях параметров не совпадают с теми, что показаны в тренинге. Они где-то близки, но не совпадают.

Где можно взять англоязычный вариант?
Пошарил по быстрому на менторовском сайте и не нашел.

Не найдете - это пока ДСП.

Если сохранился у кого-нибудь , пожалуйста, залейте на ftp.