Здравствуйте,

Если есть рисунок, который необходимо получить на подложке с заданной точностью, а так же известны параметры излучения, формирующего это изображение, характеристики фоторезиста, среды распространения, оптической системы фокусировки и т. д.
Возможно ли теоретически рассчитать такую нерегулярную дифракционную решётку, которая давала бы интерференционную картину, соответствующую заданному рисунку?

Может быть, кто-нибудь занимался проблемой и знает где найти информацию?

Конечно есть. Мне попадались презентации где были показаны профили фоторезиста (после засветки и проявки), рассчитанные для оценки тех. параметров. Где-то на работе должны быть файлы по EUV литографии, если найду, выложу.

Вдруг поможет:
http://a_v_a_x_h_o_m_e.ws/ebooks/engeneeri...ithography.html