вопросов у меня много, извиняюсь за сумбурность
1) можно ли утверждать, что ESD должно специфицироваться/рассчитываться на уровне чипа, а не ячейки? упрощая: много IO ячеек и мало/нет CLAMP ячеек - будет ли хуже?
2) какая группа IO более устойчива - та в которой много ячеек (например за счет большей емкости по VCC_IO) или маленькая (за счет меньшей индуктивности от ножки до CLAMP ячейки)? можно ли вообще такой сравнительный анализ делать?
3) хотелось бы какие-то примитивные спайс модели/описания ячеек и параметры тех процесса (ну например затвор пробивается при 5В и т.п.) иметь, чтобы самому делать хоть очень приблизительные, но оценки.
4) какие еще структуры кроме диодов (идеальных) и емкостей/индуктивностей/сопротивлений нужно учитывать при анализ ESD?
дело в том, что мы занимаемся только фронтэндом (то есть в дизайн ките ни лейаутов, ни спайс моделей нет), проект закрыт, то есть сапорт получить долго, ну и трудоемко
а такой вопрос возник и появилось желание разобраться, не совсем абстрактно, а все-таки c привязкой к 90нм или меньше процессу
доступна ли инфа (книжки с
http://libgen.org я читать буду, но там слишком много), которую можно почитать? ну и вообще, так как я в этом разбираюсь слабо - буду рад любым подсказкам