вопрос технологам, требование к различности зазоров Опции

[1113]

доброго времени суток.

один из производителей ПП имеет следующие требования:

минимальная ширина проводника/минимальный зазор для фольги 18 мкм — 0,15/0,15 мм
минимальный отступ полигона от КП/проводника для фольги 18 мкм — 0,20 мм

так как непосредственно этот производитель объяснить своё требование не может или не хочет, выношу на всеобщее обсуждение.

вопрос: чем отличается процесс травления зазора проводник-полигон (КП-полигон) от зазора проводник-проводник, и почему необходимо делать разные зазоры? какие КП имеются в виду, с отверстием или нет, и почему?

[Andrew Marinych]

Можно долго спорить о формулировках, является ли область медного рисунка на печатной плате полигоном или проводником, но с точки зрения технологии изготовления это не изменит ничего. Попробую объяснить, в чем с точки зрения технологии в общем случае различие между зазором заливки полигона и остальными зазорами. Печатные платы изготавливаются комбинированным позитивным методом, это означает, что после операции проявления фоторезиста в местах будущей схемы он (фоторезист) отсутствует. Это значит, что области будущих зазоров на печатной платы закрыты фоторезистом. Процесс проявления, как и процесс травления идет более интенсивно на отдельно стоящих элементах схемы. Так как полигон на печатной плате в общем случае подразумевает некоторую область залитую медью, то при наличии проводника (или любого другого элемента схемы)внутри полигона после процесса проявления мы получаем отдельные полоски фоторезиста, ширина которых получается меньше, чем ширина полосок фоторезиста между группой проводников, что означает в конечном итоге уменьшение будущего зазора между полигоном и проводником. Далее, опуская сложности при удалении узких полосок фоторезиста после операции металлизации медь/металлорезист, т.к. это больше технологический момент, на операции травления мы имеем обратный эффект, о котором я писал ранее: зазор между заливкой полигона и топологией травится медленнее, чем отдельно стоящие проводники, а за счет того, что после операции проявления фоторезиста этот зазор стал уже, чем другие зазоры, процесс травление еще более усложняется.

Таким образом, если все зазоры на плате будут 150 мкм, то зазор между заливкой полигона и топологией вероятнее всего будет 100-120 мкм, что, в конечном итоге, чревато недотравами. Это и объясняет требование большему зазору заливки полигона. Когда плата делается по 5 классу точности, зазор полигона также должен быть больше, чем другие зазоры, т.к. механизм получения топологии тот же. При ширине проводника/зазоре в 100 мкм требование к отступу заливки полигона 150 мкм, что, собственно, и указано в техтребованиях.
Я согласен, что формулировка в технологических требованиях не совсем точна, хотя, если обратиться к картинке на той же странице, то там данный параметр "D" нарисован от переходного отверстия, в любом случае, формулировку мы поправим в ближайшее время. Надеюсь я достаточно подробно ответил на Ваш вопрос по зазорам. Хорошего дня!

[vitan]

Так как полигон на печатной плате в общем случае подразумевает некоторую область залитую медью, то при наличии проводника (или любого другого элемента схемы)внутри полигона после процесса проявления мы получаем отдельные полоски фоторезиста, ширина которых получается меньше, чем ширина полосок фоторезиста между группой проводников, что означает в конечном итоге уменьшение будущего зазора между полигоном и проводником.
<...>
Надеюсь я достаточно подробно ответил на Ваш вопрос по зазорам.

Нет, не достаточно.
В приведённой цитате одно из другого не следует. А именно: из того, что полигон есть область меди, автоматически никак не следует, что внутри него полоски фоторезиста станут меньше таковых между группой проводников. С чего бы это им стать меньше? М.б. Вы хотите сказать, что т.к. проводник _внутри полигона_ (это Ваши слова), то этот фоторезист будет со всех сторон окружён и станет меньше именно за счёт этого? Или ещё по какой-то причине? И как это объяснение ложится на картинку, в которой проводники лежат не внутри, а рядом с полигоном?

И, в конце-концов, какую ширину меди Вы считаете полигоном, а какую проводником?

[1113]

это объяснение ложится на картинку, в которой проводники лежат не внутри, а рядом с полигоном?

как я понял вот объяснение:

мы получаем отдельные полоски фоторезиста, ширина которых получается меньше, чем ширина полосок фоторезиста между группой проводников, что означает в конечном итоге уменьшение будущего зазора между полигоном и проводником.

полоска фоторезиста "подтравливается" с той стороны, где до другой полоски фоторезиста достаточно большое расстояние - со стороны полигона.

и далее - если полигон разрезать проводником, получается следующая структура фоторезиста: нет фоторезиста (полигон) - есть полоска (зазор полигон проводник)(подтравливается слева) - нет полоски (проводник) - есть полоска (зазор полигон проводник)(подтравливается справа) - нет фоторезиста (полигон). из этого имеем - сам проводник травится точно 0.15 а зазоры слева и справа от него - уменьшаются.

осталось только выяснить какой размер меди влияет на подтравливание фоторезиста.