ЕМНИП, раньше я как-то при DRC контролировал ,что зазоры между видимыми "RefDes" ("маркировка") разных компонентов в слое "Top Silk" находятся в допустимых пределах.
Ну, короче, что один "RefDes" не налазит на другой "RefDes" в слое шелкографии.
А сейчас у меня в "шелкографии" (слой Top Silk) RefDes одного компонента налазит на RefDes другого компонента и пикад при DRC на это никак не ругается.
Подскажите! Как включить контроль.
Все перепробовал. С PackageOutlineLayer экспериментировал.
Галку "Silk Screen Violation" ставил (её установка включает только контроль что шелкография не налазит на PAD и VIA, "налазение" текста на текст в слое Top Silk при этом не контролируется).
Галку "Text Violation" ставил. Она контролирует зазоры между текстом, только если текст находится на проводящем слое. Со слоем Top Silk она не работает
Никак не могу заставить пикад контролировать, что один рефдес в шелкографии налазит на другой (или касается другого).
Напомните, как это сделать?
-------------------------
Блин.
Пока писал сообщение меня "осенило":
Нужно создать фиктивный временный проводящий слой и перенести все RefDes-ы на него.
А после расстановки RefDes-ов и успешного прохождения DRC перенести их обратно на Top Silk и фиктивный слой удалить
Попробовал. Все получилось
Забыл как в PCAD 2006 SP2 включить контроль зазоров между текстом и ... текстом в слое шелкографии. Подскажите.
Aug 25 2016, 05:26
