Правило, чтобы под компонентами у полигона были другие зазоры до дорожек, Сложность в том, что полигон и дорожка - это 2 объекта,а компонент - 3 Опции

[Krys]

Здравствуйте. Помогите, пожалуйста, реализовать следующее:

Допустим есть зазор от полигона до дифференциальной пары, который определяется необходимым мне волновым сопротивлением. Однако когда эта дифференциальная пара подходит к компоненту (допустим заходит под ПЛИСку BGA), то я хочу, чтобы этот зазор уже определялся просто минимальными технологическими требованиями производства. Полигон и дорожки могут быть во внутренних слоях, т.е. не в тех слоях, где расположены сами компоненты. Но под ними правило должно меняться.

Другими словами, мне нужно проверять зазор между двумя объектами: полигоном и трэком, но при этом контролировать наличие где-то в верхнем слое объекта в компонент классе, т.е. 3е условие, которое непосредственно не связано с двумя контролируемыми объектами.

Такое как-то можно реализовать?

Получается не binary rule, а triple rule :)

[Krys]

Владимир, что-то я ничего не понял... 1). Что значит "достаточно очищен"? и 2). Меня интересует зазор не между track и pad, а между track и полигоном. Но при условии наличия или отсутствия компонента сверху - зазор должен быть разным.

Вот проходят у меня трассы, вокруг них полигон залит земляной. Имеется определённый зазор от полигона до трасс. Там, где эта конструкция проходит (во внутренних слоях) место, где на внешних слоях есть компоненты, зазор от полигона до трасс должен быть другим.