Правило, чтобы под компонентами у полигона были другие зазоры до дорожек, Сложность в том, что полигон и дорожка - это 2 объекта,а компонент - 3 Опции

[Krys]

Здравствуйте. Помогите, пожалуйста, реализовать следующее:

Допустим есть зазор от полигона до дифференциальной пары, который определяется необходимым мне волновым сопротивлением. Однако когда эта дифференциальная пара подходит к компоненту (допустим заходит под ПЛИСку BGA), то я хочу, чтобы этот зазор уже определялся просто минимальными технологическими требованиями производства. Полигон и дорожки могут быть во внутренних слоях, т.е. не в тех слоях, где расположены сами компоненты. Но под ними правило должно меняться.

Другими словами, мне нужно проверять зазор между двумя объектами: полигоном и трэком, но при этом контролировать наличие где-то в верхнем слое объекта в компонент классе, т.е. 3е условие, которое непосредственно не связано с двумя контролируемыми объектами.

Такое как-то можно реализовать?

Получается не binary rule, а triple rule :)

[Владимир]

Может и я не понял.
1. На внутренних слоях зазор для полигонов индивидуальный, для дифпар тем более отдельное правило
2. На вешних слоях тоже самое, только обычно зазоры больше
3. Тут еще конфликт, для смежных слоев с дифпарами не должно быть разрыва в полигонах
4. Обычно ругается на не допустимый зазор между дифпарой и площадками микросхемы, так как расстояние до последних , обычно меньше чем хотелось бы. Тут и встает правило между площадками и дифпарами

где на внешних слоях есть компоненты, зазор от полигона до трасс должен быть другим

Ну да , как правило больше

Clearance_Poly_TOP_BOT
InPolygon and (OnBottomLayer or OnTopLayer )
All

AnyDifferentialPair _to_Track
IsDifferentialPair
IsTrack

Clearance_InPolygon-InAnyDifferentialPair
InPolygon
(IsTrack Or IsArc) And (InAnyDifferentialPair)