Правило, чтобы под компонентами у полигона были другие зазоры до дорожек, Сложность в том, что полигон и дорожка - это 2 объекта,а компонент - 3 Опции

[Krys]

Здравствуйте. Помогите, пожалуйста, реализовать следующее:

Допустим есть зазор от полигона до дифференциальной пары, который определяется необходимым мне волновым сопротивлением. Однако когда эта дифференциальная пара подходит к компоненту (допустим заходит под ПЛИСку BGA), то я хочу, чтобы этот зазор уже определялся просто минимальными технологическими требованиями производства. Полигон и дорожки могут быть во внутренних слоях, т.е. не в тех слоях, где расположены сами компоненты. Но под ними правило должно меняться.

Другими словами, мне нужно проверять зазор между двумя объектами: полигоном и трэком, но при этом контролировать наличие где-то в верхнем слое объекта в компонент классе, т.е. 3е условие, которое непосредственно не связано с двумя контролируемыми объектами.

Такое как-то можно реализовать?

Получается не binary rule, а triple rule :)

[Владимир]

Но под этим компонентом зазор от полигона до дифпары во внутреннем слое должен быть отличным от той области, где сверху нет такого компонента.

Гм. Странное требование. Да и зазоры чегось маленькие.
1. Обычно зазор между дифпарой и иными линиями в том же слое более 3 cleorance между линиями в дифпаре.
2. Если в внутреннем слое зазор задан--- смысл его увеличивать там, где на верх стоит компонент? На этом же слое его нет.
3. Да сам компонент нарушает условие для дифпары на слое под ним. Поэтому для дифпар используют например верхний и третий слой. А второй (четвертый)-- под сплошную заливку в зоне дифпар.

[Krys]

Владимир, я требования чисто условно нарисовал, зазоры с потолка. Про необходимость сплошного полигона - в курсе :)