Прилагаю структурную схему, которую делал Авраменко (see attachment). Принципиальную схему привести не могу, т.к. это труд группы (в 80-х гг. эта тема была закрытой

). У нас сотрудики ездили к нему и сделали установку по его подобию. Процесс плазменного образования происходит примерно следующим образом:
Между катодом и анодом на расстоянии примерно 1sm прикладывается U=500-1200V (энергия накапливается на конденсаторе C=510mkF) получается запасаемая Q=60-600J. Но разряда не произойдет, пока не будет подан инициирующий импульс. Так для пробоя в воздухе 1sm требуется примерно U=70kV. Образуется плазма и по ней уже протекает основной разряд. Между катодом и анодом находится оргстекло, в котором сделан миллиметровый капиляр, через который проходит разряд. Основной разряд критической помехи не создает, в отличии от разряда поджига у которого U=30-70kV, энергия Q=4J, длительность импульса t=1mks.
Есть шина земли с которой соединена экспериментальная установка. Осциллограф соединен с земляной шиной.
Независимо стоит видеокамера, которая управляется компьютером через RS232. Сейчас установлено 2 видеокамеры одной марки. На ведущей видеокамере помеха не мешает, но на ведомой (она должна запускаться синхронно с некоторой задержкой с первой по управляющему импульсу от ведущей) помеха сбивает работу камеры, даже в самостоятельном режиме работы. Отличие в том, что она сделана разработчиком более чувствительной. Земля видеокамеры с шиной земли не соединена. Видеокамера питается +12V, сигналы управления 3.3V.
Провели эксперимент: на расстоянии 2 метров от плазменного разряда видеокамера почти каждый раз сбивается (было обнаружено место под установкой, где сбоев почти не было), на расстоянии 5 - нет.
Проблема еще в том, что видеокамера может воспринять (?) даже обрезанный сигнал по напряжению супрессором как управляющий.
Если не совсем ясно, нарисую структурную схему.