ASIC дома Опции

[BarsMonster]

Теперь вероятно будет понятно, почему я тут ходил и доставал всех своими вопросами ;-)

Первая статья о моём проекте на хабре - http://habrahabr.ru/blogs/DIY/118534/
Форум проекта - http://3.14.by/forum/viewforum.php?f=11

На данный момент, меньше всего информации и/или идей по:

1) Выделить наиболее критичные по чистоте операции в CMOS процессе с металлическим затвором.
Я правильно понимаю, что после того как металл затвора положили - дальше хоть трава не расти? :-)
И в целом - основная проблема по чистоте - в накоплении носителей заряда в дефектах под и над затворным диэлектриком?

2) По прежнему ищу способ металлизации без вакуума.

[BarsMonster]

Все эти дискуссии были до Jeri Ellsworth, её лаборатория далека от чистой комнаты.
Страница истории уже перевернута. :-)

[alexunder]

Все эти дискуссии были до Jeri Ellsworth, её лаборатория далека от чистой комнаты.
Страница истории уже перевернута. :-)

Не хочу вас огорчить, но зачем вам полевики (или даже биполяр) в кустарных условиях? У вас элементарно не получится вырастить хороший окисел с красивым Si-SiO2 интерфейсом (чтоб поверхностных состояний было хотя бы ~10^12 см-2*эВ-1), не говоря уж об имплантации...

Может проще на фабрику устроиться дизайнером? Или просто дизайнить чипы (it's possible at home ) и отсылать на TSMC или global foundries.

Сообщение отредактировал alexunder - May 4 2011, 14:59

[BarsMonster]

Не хочу вас огорчить, но зачем вам полевики (или даже биполяр) в кустарных условиях? У вас элементарно не получится вырастить хороший окисел с красивым Si-SiO2 интерфейсом (чтоб поверхностных состояний было хотя бы ~10^12 см-2*эВ-1), не говоря уж об имплантации...

Почему не удасться? Кремний как у всех, термопрофиль - также можно выдержать любой, кислород/вода грязная?
Деионизированная вода продается, делаем электролиз - водород в атмосферу, мокрый кислород в печку, 1000 градусов 1.5-2 часа и 100нм оксида готово (чуток HCl если понадобится натрий связать) - чем на производстве-то лучше?
Само собой баллоны с кислородом я домой ставить не планирую )

Может проще на фабрику устроиться дизайнером? Или просто дизайнить чипы (it's possible at home ) и отсылать на TSMC или global foundries.

На фабриках как я уже наслышан весьма грустная з/п, да и работа оператора не так интересна. Дизайнить чипы, и в шатле делать - я сначала думал (и у Интеграла узнавал без шатла цену), хоть по цене и относительно доступно - но это не особо интересно (ну сделал один чип, ну допустим повезло и заработало, толку то с него :-) ).

Я слежу за ее успехами, но что-то не припомню, чтобы она делала микросхемы дома. Можно линк?

По теме: мне кажется, что ТТЛ тех. процесс проще КМОП и значительно менее требователен к чистоте и точности соблюдения параметров.

Микросхемы - нет. Но инвертор у неё работал. И у неё там далеко не чистая комната ;-)

ТТЛ - да, конечно проще, но это немного тупиковое направление - процессор на ТТЛ не сделать...

>BarsMonster

Если вы хотите сделать какой-то один конкретный ASIC под одну задачу, или вообще произвольный ASIC по доступной технологии?

Я хочу иметь рабочий техпроцесс, чтобы можно было делать любые ASIC (в пределах ограничений по размеру и проч.)
Конкретной задачи пока нет - по началу это будут просто сдвиговые регистры и счетчики, и это меня более чем устроит.

Главное, при всех этих экпериментах не потравить себя и соседей.
Все же газы всякие ядовитые используются, которые на производстве обычно нейтрализуют на выходе....

Это - одна из двух причин, почему я не пытаюсь делать плазменное травление / реактивную ионную имплантацию.
А за вычетом газов для травления/легирования - остается только плавиковая кислота, которая и так в быту используется.

[alexunder]

Почему не удасться? Кремний как у всех, термопрофиль - также можно выдержать любой, кислород/вода грязная?
Деионизированная вода продается, делаем электролиз - водород в атмосферу, мокрый кислород в печку, 1000 градусов 1.5-2 часа и 100нм оксида готово (чуток HCl если понадобится натрий связать) - чем на производстве-то лучше?
Само собой баллоны с кислородом я домой ставить не планирую )

эх... почитали бы вы старую, но толковую книжку под редакцией Зи, которая называлась "Технология СБИС" (кажется, в одной из ваших тем я на нее ссылался). Кислород, вода... Ну не смешите!
На производстве лучше тем, что:
1. Качество DI-воды там всегда постоянное. У любого даже мелкого клианрума, как правило, есть свой DIW-заводик, на котором вариация параметров минимизирована.
2. В камере необходимо поддерживать давление кислорода, т.е. нужна вся обслуживающая техника/электроника.
Вам бы посмотреть как оно на производстве делается, как устроены печи, где получают нужное качество слоёв/границ.
А как насчет литографии? Здесь фото- и "утюжная" литография, как в случае с печатными платами в домашних условиях, не сгодится (если конечно ваш ASIC не нацелен на длину канала 200-500 мкм).

Вы только поймите меня правильно, я рад вашему энтузиазму! Но по-моему вам лучше направить его в другое менее утопическое русло и не тратить силы на такие эксперименты.

Сообщение отредактировал alexunder - May 4 2011, 21:46

[BarsMonster]

эх... почитали бы вы старую, но толковую книжку под редакцией Зи, которая называлась "Технология СБИС" (кажется, в одной из ваших тем я на нее ссылался). Кислород, вода... Ну не смешите!
На производстве лучше тем, что:
1. Качество DI-воды там всегда постоянное. У любого даже мелкого клианрума, как правило, есть свой DIW-заводик, на котором вариация параметров минимизирована.
2. В камере необходимо поддерживать давление кислорода, т.е. нужна вся обслуживающая техника/электроника.
Вам бы посмотреть как оно на производстве делается, как устроены печи, где получают нужное качество слоёв/границ.
А как насчет литографии? Здесь фото- и "утюжная" литография, как в случае с печатными платами в домашних условиях, не сгодится (если конечно ваш ASIC не нацелен на длину канала 200-500 мкм).

Вы только поймите меня правильно, я рад вашему энтузиазму! Но по-моему вам лучше направить его в другое менее утопическое русло и не тратить силы на такие эксперименты.

Товарища Зи мне тут уже советовали с год назад ;-)

1. DI вода у меня также заводская будет, какая там вариация параметров - сопротивдение 10МОм+ и нормально. А если сопротивление низкое - это уже не DI вода.
2. Постоянное давление кислорода как раз не испольуется зачастую - начало и конет окисления могут делать с бОльшим парциальным давлением для получения границ более высого качества, а середина - с парами воды для скорости.
Вариация +-5% в толщине окисла - это я думаю не самое фатальное по всей этой затее, но в любом случае объем выделяемого кислорода стабилизировать очень легко : нужен просто стабилизированный ток электролиза. Влажность также должна быть примерно стабильная если обеспечить стабильную температуру воды.

3. Да, как раз по началу маска будет ровно такая-же как и при производстве PCB, с длиной канала 100-200 микрон. У Jeri вон вообще маска руками из каптонового скотча была вырезана - и работало.

Именно критика мне и нужна, т.к. позволяет выявить наиболее слабые места сразу.