Flip или MIRROR?? Опции

[leha2000]

Здравствуйте!
Создал посадочное место под микросхему в pattern editor, а в последствии оказалось, что все выводы необходимо сделать зеркальным отображением созданного "паттерна". Микросхема насчитывает 160 выводов, поэтому не хочется создавать посадочное место заново. Да и если придется, хотелосьбы на будущее знать как сделать это быстрее.
Все дело в том, что используя Flip для получения зеркального изображения все контактные площадки перемещаются на Противоположенный слой (Bottom), а в свойствах PAD присутствует неубираемая галочка в области Orientation в строке Flip. Конечно можно в свойствах PAD установить её принадлежность к слою (Bottom),тогда будет все нормально. Но это будет нетехнологично, да и впоследствии придется все время об этом помнить!!!
Нельзя ли убрать эту долбанную галочку, если можно подскажите, пожалуйста, как!! Хочется всетаки получить MIRROR, а не FLIP!

[Axel]

Похоже, шансов мало: FLIP и MIRROR манипулируют с одним и тем же объектом, Вы же хотите создать другой.

[leha2000]

Похоже, шансов мало: FLIP и MIRROR манипулируют с одним и тем же объектом, Вы же хотите создать другой.

Насколько я знаю в PCAD нет такой команды mirror, есть только Flip. Или может я чего ошибаюсь?? Конечно я хочу создать другой объект вместо прежнего.
Видимо разработчики программы не догадались, что функция такая будет востребована. Наверное они сами никогда не ошибались! Или хотят, чтобы мы - пользователи, были лучше и внимательнее их, разработчиков, и чтобы никогда ничего не забывали, так как они про команду mirror!!!!
Наверное теперь буду двадцать раз обдумывать свои действия, прежде, чем создать PATTERN.