Требуется создать источник ИК (850 +- 50 нм) со специфической диаграммой направленности.
Вкладываю изображение с диаграммой в двух плоскостях.
Красным отмечены нужные участки, как распределена мощность вне участков представляется не важным.
Мощность в целевом секторе требуется ~100 мВт.
В одной плоскости мощность нужно распределить в секторе 20 градусов линейно относительно угла. В другой - постоянная плотность в секторе 20 градусов.
Важна относительная точность распределения, порядка 0.1%.
Если использовать светодиод и подобранный градиентный светофильтр, то есть сомнения в точности из-за неоднородности кристалла. Впрочем как и в случае с лазером.
Решаема ли эта задача вообще? Какие можете дать советы?
Большое спасибо!
Эскизы прикрепленных изображений