Вопрос к профи данной ветки. Возможно ли заказать изготовление некоторой топологии/рисунка с зазорами 5мкм и минимальной толщиной проводника 20мкм? Процесс не важен, будет это лазерное скрайбирование или литография.

Если правильно понимаю, речь идет о формировании рельефа с так называемым высоким аспектным отношением. При традиционной технологии анизотропного травления тонких слоев (пленок) это врядли получится. Но такие рельефы получают, например, в МЭМС структурах многоэтапным послойным стравливанием с помощью плазмохимических процессов. Детали можно найти в internet.