Помощь - Поиск - Пользователи - Календарь
Полная версия этой страницы: MG Expedition ликбез ...
Форум разработчиков электроники ELECTRONIX.ru > Печатные платы (PCB) > Разрабатываем ПП в САПР - PCB development > Mentor-ExpeditionPCB
Страницы: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49, 50, 51, 52, 53, 54, 55, 56, 57, 58, 59, 60, 61, 62, 63, 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81
ClayMan
Что ж, спасибо за разъяснения, буду разбираться. У меня только 2007, возможно будь еще и 2005 такой проблемы не возникло бы.
f0GgY
в догонку темы бублика.

картинка из кама, при проверке на зазоры, всплывают ошибки. при генерации из ее в круговыми полигонами всё ок.

Герберы генерирую растром, разрядность поставил 4.5.

Где искать ошибку?
Frederic
Цитата(f0GgY @ Apr 25 2011, 15:37) *
в догонку темы бублика.

картинка из кама, при проверке на зазоры, всплывают ошибки. при генерации из ее в круговыми полигонами всё ок.

Герберы генерирую растром, разрядность поставил 4.5.

Где искать ошибку?

какой версии САМ?
попробуй в САМ10
f0GgY
10.0 тож самое, спецы подсказали, что 10.2 тоже таким грешил. Попробуем на демо 10.5
Главное что бы на производстве такого "бага" не возникло sad.gif
fill
Цитата(f0GgY @ Apr 25 2011, 16:57) *
10.0 тож самое, спецы подсказали, что 10.2 тоже таким грешил. Попробуем на демо 10.5
Главное что бы на производстве такого "бага" не возникло sad.gif


А если через ODB++
f0GgY
Цитата(fill @ Apr 25 2011, 16:55) *
А если через ODB++

в одб всё ок.
но с одб никогда не работал, сделал по дефолтовым настройкам sm.gif, и при импорте директории одб в кам получилось 19 слоёв, и куча всякого треша, поэтому пользовать сей механизм по незнанию стрёмно wacko.gif (будем разбираться и уничтожать свои страхи biggrin.gif ). Хотя канешн можно попробовать терь в каме сделать выход нужных слоёв герберов.

Но всё так баг, в цепочке ЕЕ-гербер-КАм, или просто так Кам отображает герберы которые приходят из ЕЕ.
Если на производство отдать герберы, не возникнет ли у них этого бага.


Буду пробывать всё таки через герберы sm.gif

10.5. в демо режиме не получилось с гербером. только автоимпорт, который гербер почему то хавать не хочет.

Ну и вариант с одб-кам-герберы, тоже можно потанцевать.

кста при генерации через одб есть варинги типа

" WARNING: Since the starting (3.1506873,1.4790031)(in) and the ending (3.1506871,1.4790033)(in) coordinates of the arc are same, it will be interpreted as an arc of 360 degrees per ODB++ standards and can potentially cause problems.
Hence this arc is approximated to a line."

на сколько я понимаю некую дугу апроксимировали в линию.
fill
Цитата(f0GgY @ Apr 25 2011, 18:28) *
в одб всё ок.
но с одб никогда не работал, сделал по дефолтовым настройкам sm.gif, и при импорте директории одб в кам получилось 19 слоёв, и куча всякого треша, поэтому пользовать сей механизм по незнанию стрёмно wacko.gif . Хотя канешн можно попробовать терь в каме сделать выход нужных слоёв герберов. Вопрос только вот, баг, в цепочке ЕЕ-гербер-КАм, или просто так Кам отображает герберы которые приходят из ЕЕ.
Если на производство отдать герберы, не возникнет ли у них этого бага.

Буду пробывать всё таки через герберы sm.gif

10.5. в демо режиме не получилось с гербером. только автоимпорт, который гербер почему то хавать не хочет.


1. Баг явно в КАМе.
2. ODB++ более продвинут, поэтому скорее всего в переспективе изучать придется. rolleyes.gif
3. Если импортировать гербер обратно в Exp и затем выдать получившийся user_layer в гербер, то как его прочтет КАМ? Может пропадет ошибка апроксимации дуг?
Кстати, в Exp не пробовали в настройках формата гербера изменить тип Arc style - может КАМу другой стиль больше подойдет?
f0GgY
Цитата(fill @ Apr 25 2011, 17:42) *
Кстати, в Exp не пробовали в настройках формата гербера изменить тип Arc style - может КАМу другой стиль больше подойдет?

Вот как раз пробовал

поставил Arc Style - Quadrant, и полигоны растром.
В кам импортнулось, на первый взгляд, корректно с некоторыми предупреждениями типа:

"Log - *** Arc 368.8732283:2476.0570866 - 369.4074803:2474.7681102 center fixed from 378.211811:2479.169685 to 378.2107874:2479.172126"

При ДРЦ в каме, ошибок уже не выявлено. Т.е. вообщем то фокус со стилем дуг в некотором смысле сыграл.
Но ОДБ да sm.gif надо разбираться и пользовать.

Спасибо. Вроде как вопрос решён.

Но там был ещё один с нитками cool.gif
fill
Цитата(f0GgY @ Apr 25 2011, 18:50) *
Но там был ещё один с нитками cool.gif


Давайте тестовый проект на котором это можно увидеть.
f0GgY
Цитата(fill @ Apr 25 2011, 18:00) *
Давайте тестовый проект на котором это можно увидеть.

увы, проект ни ни sad.gif. Попробую сам словить. По дрс всё ок.
Frederic
Цитата(f0GgY @ Apr 25 2011, 18:06) *
увы, проект ни ни sad.gif. Попробую сам словить. По дрс всё ок.

нитки д.б. , т.к. у тебя островки полигонов не соединенные ни с чем
устанавливай min площадь для полигона для удаления островков
f0GgY
Цитата(Frederic @ Apr 25 2011, 18:38) *
нитки д.б. , т.к. у тебя островки полигонов не соединенные ни с чем
устанавливай min площадь для полигона для удаления островков

мин площадь у меня стоит. это островки не меди, а полигон "натянут" по всей плате.

в настройках полигона у меня стоят галочки
на
all untied areas
any areaes less than 2 х 2

так что неподсоединённые островки меди у меня как таковые при заливке в динамическом и статическом отсутствуют. А нитки кидает на островки которые вообщем то физически и не существуют.

полигон земли, от которого нитки у меня коричневый и проливается везде где ему надо. sm.gif
Frederic
Цитата(f0GgY @ Apr 25 2011, 18:59) *
мин площадь у меня стоит. это островки не меди, а полигон "натянут" по всей плате.

в настройках полигона у меня стоят галочки
на
all untied areas
any areaes less than 2 х 2

так что неподсоединённые островки меди у меня как таковые при заливке в динамическом и статическом отсутствуют. А нитки кидает на островки которые вообщем то физически и не существуют.

полигон земли, от которого нитки у меня коричневый и проливается везде где ему надо. sm.gif

может у меня оптический обман sm.gif из за коричнегово полигона на черном фоне
или его нет в динамическом режиме?
но куда подключен средний полигон???

плиз дай картинку с другими цветами
maailmankaikkeus
Предлагаю легкую задачку "экспедиторам", расслабить мозг в конце трудового дня (или в начале - взбодриться) sm.gif

Обнаружил сегодня ситуэйшн.
Суть: если у компонента есть ряд пинов питания, прописанные в PDB (например, VCC), то при использовании данного компонента в составе Reusable Block эта цепь после упаковки не разбивается на несколько цепей, индивидуальных для каждого Reusable (например: VCC_1, VCC_2, VCC_3 и т.д., по числу повторяющихся блоков), но остается ГЛОБАЛЬНОЙ по всем блокам (все той же VCC).

Вопрос: как сделать эту цепь уникальной для каждого Reusable, не вынося пины питания на символ компонента? wacko.gif wink.gif
Asb
Цитата(maailmankaikkeus @ Apr 27 2011, 18:58) *
Вопрос: как сделать эту цепь уникальной для каждого Reusable, не вынося пины питания на символ компонента?


По-моему просто надо сделать ее НЕ глобальной. Если в схеме Reusable блока 1 лист все должно получиться.

Коллеги, подскажите пожалуйста как правильно сделать вырез внутри "Conductive Shape"
maailmankaikkeus
Цитата(Asb @ Apr 28 2011, 13:07) *
По-моему просто надо сделать ее НЕ глобальной. Если в схеме Reusable блока 1 лист все должно получиться.


В том-то и вопрос, как ее сделать не глобальной. Она глобальной походу уже сама объявилась, будучи прописанной в PDB, я ее глобальной сам ручками не объявлял нигде.


Цитата(Asb @ Apr 28 2011, 13:07) *
Коллеги, подскажите пожалуйста как правильно сделать вырез внутри "Conductive Shape"


Можно так: нарисовать внешнюю и внутреннюю форму, совместить как надо, выделить внешнюю, нажать на пиктограммку Subtract и тыкнуть в место расположения внутренней формы, она и вычтется.
Doomsday_machine
Asb
Нарисуйте этот вырез, как Draw object и вычитайте его из Conductive Shape.
Asb
Цитата(maailmankaikkeus @ Apr 28 2011, 13:03) *
В том-то и вопрос, как ее сделать не глобальной. Она глобальной походу уже сама объявилась, будучи прописанной в PDB, я ее глобальной сам ручками не объявлял нигде.

В маршруте DC (в DxD возможно по другому - не знаю) принадлежность к глобальным цепям определяется файлом global - его расположение можно найти в свойствах проекта.
При вводе Reusable Blocka Mentor старательно пытается его обновить - у меня эта возможность блокирована - у Вас возможно нет. Вот где-то так...
ClayMan
Подскажите, где в Exp задается глобальный отступ для паяльной маски? В PADS все просто - там при формировании гербер-файла есть специальный пункт. В Exp не могу найти подобное, по хэлпу полазил - ответа также не нашел.
AlexN
Цитата(ClayMan @ May 10 2011, 14:00) *
Подскажите, где в Exp задается глобальный отступ для паяльной маски? В PADS все просто - там при формировании гербер-файла есть специальный пункт. В Exp не могу найти подобное, по хэлпу полазил - ответа также не нашел.


нет такой фичи в expedition crying.gif задавайте в padstackEditor.
кстати, в этом есть некоторое неудобство - если требования разных изготовителей к величине этого зазора разные, то надо редактировать padstack, либо (если нормальный изготовитель) - он сам откроет от маски сколько надо. Я забил размер маски == размеру КП, наш изготовитель сам открывает сколько надо по своим технологическим требованиям.
к слову сказать, в pcad200x - есть такая фича biggrin.gif
ClayMan
Цитата(AlexN @ May 10 2011, 10:36) *
нет такой фичи в expedition crying.gif задавайте в padstackEditor.
кстати, в этом есть некоторое неудобство - если требования разных изготовителей к величине этого зазора разные, то надо редактировать padstack, либо (если нормальный изготовитель) - он сам откроет от маски сколько надо. Я забил размер маски == размеру КП, наш изготовитель сам открывает сколько надо по своим технологическим требованиям.
к слову сказать, в pcad200x - есть такая фича biggrin.gif

НЕТ?! Вот уж не ожидал - откровенно говоря банальная и довольно необходимая функция.
Цитата
кстати, в этом есть некоторое неудобство - если требования разных изготовителей к величине этого зазора разные, то надо редактировать padstack

Вот именно! Это очень неудобно. Понять не могу - почему в PADS, кот считается пакетом менее функциональным, есть такая функция, а в Exp ее нет? Глупость какая-то. Я пробовал поплясать с бубном в Mask Editor, но так и не смог добиться нужного результата - смог получить лишь уменьшенные shape.
Vadim
Как правильно заметили выше, такой фичи нет. Но в Padstack Editor можно создать именованную технологию для падстеков. У меня две технологии - Default (всегда есть по умолчанию) - отступ для маски - 0мм, и M+0.2 - отступ 0.2мм. Пока хватает sm.gif В Expedition в Setup - Setup Parameters... выбираю нужную технологию и не парюсь.
fill
Цитата(SM @ Jan 27 2011, 00:34) *
Как раз интересно, а у какого конкурента еще восьмиугольники есть? Я тягаю дорожки для HDI-проектов в specctra, так там издревле по ближайшим точкам контуров считается, и восьмиугольниги ментора для меня оказались неожиданностью. И в современной тоже так, только что проверил. (на картинке восьмиугольники пририсовал графическим редактором на скриншоте уже, если брать по ним - там 0.05 мм где-то, а по ближайшим точкам контуров - заказанные в рулезах 0.1, и via туда вдвигалось именно вручную) В суппортнет я не вхож, так как не перешел на Exp как раз в результате этой проблемы, больно муторно распихивать микровиа между пинов микробга при необходимости их смещения от центра в сторону пина, от которого фаноут, надо отключать DRC, и "на глаз". Пакет конечно всем хорош, но это откровенно напрягает. Собственно вся суть вопроса в том и есть - "а не пора ли вернуться и посмотреть опять на Exp".

UPD:
Пример в цифрах: Контактная площадка для ИМС - 10 mil, контактная площадка via - 12 мил. Потеря в худшем случае на площадке 10 мил - 0.41 мила, на площадке в 12 мил - 0.49 мил. (радиус делить на косинус 22.5 градуса минус радиус) В сумме - 0.9 мил. При допустимом по технологии зазоре в 4 мил - это потеря практически четверти допустимой нормы при придвигании одного объекта к другому по худшему направлению, что совершенно недопустимо, физически не позволяя выполнить разводку некоторых плат при включенном онлайн-DRC, не давая разместить via где надо.


https://mentorideas.brightidea.com/ct/ct_a_....bix?i=C465ABB2
ClayMan
Да-да, я вот через MG и пробовал эту операцию осуществить. Но честно говоря у меня не получилось добиться нужного результата - при выборе пункта Exact As Is становится недоступным пункт grow/sink.
fill
Цитата(ClayMan @ May 10 2011, 17:26) *
Да-да, я вот через MG и пробовал эту операцию осуществить. Но честно говоря у меня не получилось добиться нужного результата - при выборе пункта Exact As Is становится недоступным пункт grow/sink.


Т.е. читать мы не умеем:

Operation Grow and Shrink

The total mask size may be altered by setting this option. Mask sizing can be performed during any operation except Extract As Is. Positive or negative numbers can be used in this field. If no sign is present, the number is assumed to be positive.

Достаточно взять операцию OR и получить искомое.
ClayMan
Да умеем читать, умеем. Пробовал я и операцию OR для падов на топе и боттоме - получил на выходе шейпы адекватного размера но без заливки. После выполнения операции Soldermask Processor значение отступа для маски вернулось в исходное, т.е. результат достигнут не был.
Я вполне допускаю, что после определенного кол-ва танцев с бубенцами достигнуть желаемого с помощью этого менеджера удастся. Но я не понимаю почему все это не дублируется одной простой опцией, встроенной в пакет. Как было упомянуто выше даже PCAD 2XXX умеет это делать без к-л ухищрений.
fill
Цитата(ClayMan @ May 10 2011, 19:28) *
Да умеем читать, умеем. Пробовал я и операцию OR для падов на топе и боттоме - получил на выходе шейпы адекватного размера но без заливки. После выполнения операции Soldermask Processor значение отступа для маски вернулось в исходное, т.е. результат достигнут не был.
Я вполне допускаю, что после определенного кол-ва танцев с бубенцами достигнуть желаемого с помощью этого менеджера удастся. Но я не понимаю почему все это не дублируется одной простой опцией, встроенной в пакет. Как было упомянуто выше даже PCAD 2XXX умеет это делать без к-л ухищрений.


Я сделал все это за пять минут включая создание видео
Так что проблема не в софте laughing.gif
Если сохранить настройки, то и в других проектах надо будет только, загрузив настройку нажать на кнопку и получить искомый результат.
В файл для изготовления можно выдать информацию из любого слоя - не обязательно все переносить обратно в Solder Paste (и т.п.)
ClayMan
Что ж - снимаю шляпу. Ибо даже после вашего видео у меня получилось добиться нужного результата раза с третьего. Я считал, что когда ставишь значение grow, равное 0.1, то это подразумевает увеличение по 0.05 на сторону. Однако это не так - 0.1 подразумевает увеличение на 0.1 с каждой стороны площадки. Видимо потому у меня и оставалось прежнее значение каждый раз, когда я проделывал подобную операцию.
Кроме того, перезаписать информацию на созданном слое не получилось даже при изменении параметров - пришлось создавать новый юзер-слой и выставлять там нужный отступ в 0.05.
Вобщем дело конечно не в софте, но...
fill
Не обижайтесь, но налицо проблемы с восприятием, т.к. обрабатываемые фигуры (из часто применяемых) могут быть:
- круг - одна сторона
- квадрат\прямоугольник - четыре
- шестиугольник - шесть
и т.д.
а вводимое значение касается их всех.
Собственно говоря даже если выполняли базовый тренинг по Exp, то могли заметить, что там Route_Border создают копированием Board_Outline и Grow\Shrink на -50 - вся фигура сжимается на 50 по всем точкам.
Формировать нужные данные на слоях user более правильно т.к. системные слои могут обновится при обновлении исходных элементов, например падстека.
Попробуйте отключится от стереотипов пикада и понять другую идеологию - это сильно облегчит работу в дальнейшем. В данном случае гораздо правильней (как уже было ранее указанно в обсуждении) это внести размеры пасты и маски внутри падстеков, делается это один раз, но зато потом можно переключаясь на нужную Technology менять всю информацию о площадках, а не пытаться каждый раз перегенерировать ее.
ClayMan
Вы правы. Только у меня тогда возникает другой вопрос - а что же делает PADS при увеличении указанных вами геометрических типов объектов? о_О Там ведь площадки тоже могут быть разных форм, а oversize подразумевает увеличение общего размера. Я собственно потому и решил, что в Exp точно также.
Поступить, как было сказано выше, я не мог - у меня нет ЦБ для проекта (ох, тяжело же мне с ними).

Поясните по поводу Technology - почитав хэлп, я понял это так: я задаю имя новой технологии и меняю все падстеки необходимым мне образом. Изменения коснутся лишь этой технологии. Затем я могу создать еще одну технологию и проделать очередные изменения теми же падстеками. Таким образом я получаю падстеки с едиными именами, но разными технологиями и, соответственно, параметрами. Верно?
fill
1. Что значит нет ЦБ? А как вы тогда работаете?

2. Да.
Frederic
Цитата(ClayMan @ May 11 2011, 16:13) *
.....Таким образом я получаю падстеки с едиными именами, но разными технологиями и, соответственно, параметрами. Верно?

вставлю пять копеек
оставь бутеброд с икрой, т.е. кусок работы и технологам rolleyes.gif
я сделал единый зазор 0.05мм и уже технолог сам сделает под себя нужный зазор.
тем более он же и трафарет для пайки разрабатывает
а исправить мой гербер маски займет по времени не более 5мин

он даже не имея гербера маски из контактов сделает слой маски с необходимым зазором

поэтому повторю слова Vadim "и не парюсь"
ClayMan
Все верно, я тоже считаю, что это работа технолога. Но иногда они попадаются ленивые и недовольные тем, что им отдаешь маску с параметрами отличными от тех, кот нужны им.

Цитата
1. Что значит нет ЦБ? А как вы тогда работаете?

Я правлю чужой проект. Топология есть, либы - нет.
fill
Цитата(ClayMan @ May 12 2011, 12:20) *
Все верно, я тоже считаю, что это работа технолога. Но иногда они попадаются ленивые и недовольные тем, что им отдаешь маску с параметрами отличными от тех, кот нужны им.


Я правлю чужой проект. Топология есть, либы - нет.


ЦБ легко делается за пару минут:
- создаете новую ЦБ через LM
- в LM меню Tools>Library_Services импортируете все что нужно из pcb.
Doomsday_machine
fill
А как же быть с символами, которые из DxD вытащить нельзя?
fill
Цитата(Doomsday_machine @ May 12 2011, 21:40) *
fill
А как же быть с символами, которые из DxD вытащить нельзя?


Ну так в приведенном выше варианте работы нет и самой схемы.
ЦБ в данном случае выступает как хранилище топологической информации - например чтобы не делать каждый раз заново падстеки.
Собственно говоря символы внутри PDB в ЦБ нужны только для выполнения упаковки в схемном редакторе. Если же нетлист получен (не важно каким образом), то для дальнейшей работы достаточно "правой половины" PDB
sergun53
Цитата(fill @ May 13 2011, 10:51) *
Если же нетлист получен (не важно каким образом), то для дальнейшей работы достаточно "правой половины" PDB


Работать то можно, если бы не swap.
Vadim
Обратную аннотацию пока ещё не отменили. Изменения передадутся в исходный нетлист.
ClayMan
Цитата(fill @ May 12 2011, 17:13) *
ЦБ легко делается за пару минут:
- создаете новую ЦБ через LM
- в LM меню Tools>Library_Services импортируете все что нужно из pcb.

Спасибо, не знал о такой возможности) Очень полезная опция.
Asb
Вот еще вопросик образовался.
Делаю PCB шаблон в ЦБ. Хотел в CES настроить различные типы переходных отверстий для различных классов цепей.
Открываю Via Assignments - Net Class Via - а там только VIA026 в списке. sad.gif
Вот собственно хочу знать как туда записать нужный мне тип переходных ?
fill
Цитата(Asb @ May 17 2011, 14:55) *
Вот еще вопросик образовался.
Делаю PCB шаблон в ЦБ. Хотел в CES настроить различные типы переходных отверстий для различных классов цепей.
Открываю Via Assignments - Net Class Via - а там только VIA026 в списке. sad.gif
Вот собственно хочу знать как туда записать нужный мне тип переходных ?


Падстеки ПО импортировали в проект шаблона через Library_Services?
Asb
Цитата(fill @ May 17 2011, 15:01) *
Падстеки ПО импортировали в проект шаблона через Library_Services?

Через Library Services мне ничего импортировать в проект никогда не удавалось - если подскажите как это сделать буду благодарен.
Для засовывания PadStack'ов в шаблон просто скопировал файл PadstackDB.psk в директорию Layout шаблона.
Alexer
Можно выполнить команду Setup -> Setup_Parameters -> Via Definition
И далее выбирая нужные виа нажимать по кнопке "Apply", так нужные виа будут попадать в локальную библиотеку и затем их можно будет выбрать в CES.
Asb
Цитата(Alexer @ May 17 2011, 16:12) *
Можно выполнить команду Setup -> Setup_Parameters -> Via Definition
И далее выбирая нужные виа нажимать по кнопке "Apply", так нужные виа будут попадать в локальную библиотеку и затем их можно будет выбрать в CES.

Дело в том, что в Expedition Via видны как локальные, а вот CES их не видит.
fill
Цитата(Asb @ May 17 2011, 16:11) *
Через Library Services мне ничего импортировать в проект никогда не удавалось - если подскажите как это сделать буду благодарен.
Для засовывания PadStack'ов в шаблон просто скопировал файл PadstackDB.psk в директорию Layout шаблона.


Читать иногда полезно maniac.gif Нажмите для просмотра прикрепленного файла
Asb
Цитата(fill @ May 17 2011, 16:35) *
Читать иногда полезно

Действительно. Спасибо biggrin.gif .
Для меня возможность работы с локальной библиотекой проекта через через инструменты меню Setup оказалась приятной неожиданностью.
Раньше всегда думал, что соответствующие инструменты запускаются для ЦБ, ассоциированной с проектом.
COCAINE
Как восстановить RefDes компанента в слое Silkscreen после его удаления? (например выделяю R1 потом Del, как вернуть его обратно? )
Frederic
Цитата(COCAINE @ May 25 2011, 15:51) *
Как восстановить RefDes компанента в слое Silkscreen после его удаления? (например выделяю R1 потом Del, как вернуть его обратно? )

повторни сгенерить шелкографию OutPut/SilkscreenGenerator
Alexer
Сначала в режиме Place выделяем нужные компоненты, далее выполняем ECO -> Replace Cell.
В этом окне ставим галочку Reset и ставим галочки возле названий компонентов в колонке Selected Parts ну и далее Apply.
Для просмотра полной версии этой страницы, пожалуйста, пройдите по ссылке.
Invision Power Board © 2001-2024 Invision Power Services, Inc.