Цитата(psygash @ Nov 4 2007, 17:41)

Я так понимаю речь идет о создании моделей для элементов ИС (транзисторов, диодов и т.д.). Тогда маршрут примерно следующий:
1.проектирование (моделирование) техпроцесса (TCAD)
2.приборное моделирование (TCAD): получаем ВАХ, сравниваем с требуемыми, если не проходит, возвращаемся в 1.
3.разработка топологии тестового кристалла с элементами ИС (Virtuoso, L-Edit etc.)
4.Изготовление фотошаблонов
5.Изготовление тестового кристалла
6.Измерение набора тестовых характеристик полученных элементов. Какие характеристики измерять определяется элементами и требованием к моделям (например, тип модели МОП-транзистора)
7.Экстракция параметров моделей по измеренным характеристикам элементов (IC-CAP, Utmost, другие оптимизаторы)
8. Полученные модели далее используются разработчиками чипов.
При этом обычно получают не одну модель для каждого элемента, а минимум 3 (типичная, худшее быстродействие, худшее потребление) с разных партий. Это для того, чтобы разработчик знал ворота, в которых могут изменяться характеристики элементов от партии к партии и при проектировании мог бы учесть этот разброс.
Доброго времени!
Было бы очень интересно узнать Ваше мнение по следующему вопросу:
Нельзя ли перед этапом 1 сначала провести моделирование прибора, который мы хотим иметь (с применением ALTAS от Silvaco, MEDICI от Synopsys или иных аналогичных продуктов) с целью получения распределения примесей, и после этого начинать разрабатывать технологию, уже зная что именно мы хотим получить в приборе? На сколько это целесообразно? Конечно же это в первую очередь относится к новым разрабатываемым приборам, хотя, и не обязательно.
Заранее благодарен.