Цитата(Dremlin @ Jun 18 2011, 06:21)
Помогите разобраться с общей схемой маршрута проектирования. В литературе не встретил ясной схемы с чётко понятной последовательностью этапов, возможно, подскажете, где её можно найти.
На данный момент прочтено:
- глава о маршруте в "Системы-на-кристалле. Проектирование и развитие" Немудрова и Мартина;
- статья Бухтеева "Методы и средства проектирования систем на кристалле";
- статьи сотрудников ФГУП РНИИКП и НПП "Цифровые решения" "Проектирование СБИС типа система на кристалле. Маршрут проектирования".
Я правильно понимаю, что в ходе проектирования СБИС проходятся 4 этапа верификации: моделирование на поведенческом уровне в САПР, моделирование топологии в САПР с учётом паразитных нагрузок от межсоединений, макетирование в ПЛИС и верификация макетного образца СБИС? На какой из этапов приходится возвращаться при неудовлетворительных результатах верификации? Насколько достоверно макетирование в ПЛИС отражает работу будущей СБИС? Насколько сокращает сроки и стоимость проектирования применение макетирования в ПЛИС?
Спасибо!
Попробую ответить я :-)
Прогонять схему в ПЛИС - имеет смысл только если микросхема делаться будет как HardCopy с сохранением всех особенностей ПЛИС с гарантированной работоспособностью.
В остальном - моделированые симуляторы ничем не хуже (и даже лучше).
ПЛИС в какой-то степени поможет оценить насколько правильная цифровая схема (что впрочем легко и в симуляторе прогоняется), но с конечными задержками, паразитными нагрузками, рабочими частотами и энергопотреблением не будет иметь ничего общего.
Верификации - если выкинуть ПЛИС, то остается добавить лишь LVS - проверка соответствия конечных масок схеме которую желали получить.
Возвращяться - в зависимости от того что поменяли - общих правил нет.
Инфу также можно загуглить по "asic flow"