|
|
  |
Как сделать в 2006-ом вид с элементами с КП, но без проводников |
|
|
|
Apr 23 2010, 06:35
|
Частый гость
 
Группа: Участник
Сообщений: 114
Регистрация: 14-09-05
Пользователь №: 8 546

|
Цитата(RaaV @ Apr 23 2010, 10:39)  Задача такая, плата частично разведена и нужно посмотреть расположение элементов (так чтобы и их КП было видно), чтобы слегка улучшить расстановку ЭРЭ. Если отключить Тор и Воттом, то пропадают КП. В 2002-ом делал текущим слой Top Paste - и он давал графику площадок, а в 2006-ом слой Paste даёт графику только планарных КП. Одним из решений может быть при создании сквозных КП добавлять им в набор (NonSig) соответствующую графику, но КП по умолчанию имеют (NonSig) = 0 и уже есть библиотека именно с такими элементами. Поделитесь, пожалуйста, кто как получает такой вид? И в 2002 всё было абсолютно также, как в 2006, открывать надо Top Mask и Top Silk.
|
|
|
|
|
Apr 24 2010, 16:56
|
Частый гость
 
Группа: Участник
Сообщений: 114
Регистрация: 14-09-05
Пользователь №: 8 546

|
Цитата(RaaV @ Apr 23 2010, 11:03)  Слой Paste удобнее тем что он совпадает с размером КП (ну или при производстве ПП его можно таким сделать и оставить), а для слоя Mask в конце работы нужно не забыть поставить правильный Swell. Но, вобщем, принимается как вариант. Тут ещё один момент - очень хорошо бы при этом не видеть via, так как они искажают картину пустого места на ПП. При активации слоя Mask видны via. В 2002-ом слой Paste давал именно сквозные и планарные площадки, не показывая via. Почему в слое Mask должны быть видны вскрытия над Via. Вы что, переходные отверстия маской не закрываете?
|
|
|
|
|
Apr 30 2010, 19:15
|

Знающий
   
Группа: Свой
Сообщений: 825
Регистрация: 28-11-07
Из: г.Винница, Украина
Пользователь №: 32 762

|
Цитата(RaaV @ Apr 23 2010, 09:24)  Задача такая, плата частично разведена и нужно посмотреть расположение элементов (так чтобы и их КП было видно), чтобы слегка улучшить расстановку ЭРЭ. .... Поделитесь, пожалуйста, кто как получает такой вид? Правильным формированием библиотек. Точнее наличием графики в определенных слоях. Есть ведь слой шеолкографии, есть слои Assy, предназначенные для отображения графики габаритов, монтажки и т.п. Можно добавить своих слоев, специально для отображения корпуса компонета. Но это уже на любителя... В общем - смотрите приаттаченный проект.
Sensor_rev_2_2.rar ( 75.41 килобайт )
Кол-во скачиваний: 104На скрине, например, отображается графика слоя BotAssy и BotView поверх слоя маски.
А на этом скрине показана как раз рабочая картинка при работе с ВОТом. Видна топология слоя и монтажные габариты компонентов.
P.S. Переключение сетов слоев производится Ctr+5..Ctr+0 а так же Shift+1 и Shift+2. Цитата(RaaV @ Apr 26 2010, 08:53)  Закрываю. Но, не заданием 0.0mil для слоя Msk в стеке via, а не ставлю галку via в задании Gerbera. Т.е. маска накрывает контактные площадки переходных, но в канал сверловки не затекает. Я правильно понял?
--------------------
Тезис первый: Не ошибается лишь тот, кто ничего не делает. Тезис второй: Опыт - великое дело, его не пропьёшь :).
|
|
|
|
|
May 12 2010, 06:45
|
Частый гость
 
Группа: Свой
Сообщений: 138
Регистрация: 31-01-08
Из: Харьков
Пользователь №: 34 608

|
Интересует именно как получить верхний вид (габариты элементов с КП). Как я понял по вложенной pcb Вы показываете сквозные КП (проблема именно с ними), а заодно и планарные из слоя Mask, для которого задан swell 2 mil. То есть на картинке они на 2 mil больше. Чтобы не было видно Via в их стеке Вы даёте 0 mil для слоёв Mask. Собственно это же предлагал Spartak. Что ненравится в этом способе: 1. Падстеки Via содержат определения для 2 лишних слоёв (top и bot mask) 2. Значение Solder Mask Swell необходимо менять: в процессе работы 0 mil, при отправке 2-4 mil. Вопрос собственно возник при переходе с pcad2002 на pcad2006. Для примера файл в pcad2002:
elec.pcb ( 191.99 килобайт )
Кол-во скачиваний: 80 Если его открыть в 2002, то интересующий вид можно получать не из слоёв Mask, а из Paste. (В файле есть пара наборов слоёв View Simple Top и Bot). И при этом нет двух указанных недостатков.
|
|
|
|
|
May 14 2010, 07:50
|

Знающий
   
Группа: Свой
Сообщений: 825
Регистрация: 28-11-07
Из: г.Винница, Украина
Пользователь №: 32 762

|
Цитата(RaaV @ May 12 2010, 09:45)  ... 2. Значение Solder Mask Swell необходимо менять: в процессе работы 0 mil, при отправке 2-4 mil.... Зачем? Неужели увеличение площадки на 100мкм (Mask Swel = 50мкм) при отображении вида так существенно? Цитата(RaaV @ May 12 2010, 09:45)  ... Чтобы не было видно Via в их стеке Вы даёте 0 mil для слоёв Mask. ... Это делается не для того, что бы их не было видно, а для того, что бы ПО были закрыты маской при изготовлении.
--------------------
Тезис первый: Не ошибается лишь тот, кто ничего не делает. Тезис второй: Опыт - великое дело, его не пропьёшь :).
|
|
|
|
|
  |
1 чел. читают эту тему (гостей: 1, скрытых пользователей: 0)
Пользователей: 0
|
|
|