Здравствуйте!
Создал посадочное место под микросхему в pattern editor, а в последствии оказалось, что все выводы необходимо сделать зеркальным отображением созданного "паттерна". Микросхема насчитывает 160 выводов, поэтому не хочется создавать посадочное место заново. Да и если придется, хотелосьбы на будущее знать как сделать это быстрее.
Все дело в том, что используя Flip для получения зеркального изображения все контактные площадки перемещаются на Противоположенный слой (Bottom), а в свойствах PAD присутствует неубираемая галочка в области Orientation в строке Flip. Конечно можно в свойствах PAD установить её принадлежность к слою (Bottom),тогда будет все нормально. Но это будет нетехнологично, да и впоследствии придется все время об этом помнить!!!
Нельзя ли убрать эту долбанную галочку, если можно подскажите, пожалуйста, как!! Хочется всетаки получить MIRROR, а не FLIP!