Neoflash оставили ONO слой, который и так используется при техпроцессе, добавив второй поликремний, т.е. дополнительно три маски.
А основной подход - это следующее:
Делаем рядом два полевика с общим затвором, в соседних well-ах. Первый полевик это p-канальник в n-well, второй - n-канальный в другом n-well. Первый полевик есть собственно тот, с которого снимают значение бита, а well второго полевика есть управляющий затвор. А собственно poly плавает.
PS. Во - что-то с картинками на тему
http://icpr.snu.ac.kr/resource/wop.pdf/J01...2041R060846.pdfТолько тут чуть по-другому, но с тем же смыслом