реклама на сайте
подробности

 
 
> IDF Export в EE2007, Улучшился ли по сравнению с EE2005?
cioma
сообщение Jun 26 2008, 20:33
Сообщение #1


Профессионал
*****

Группа: Свой
Сообщений: 1 226
Регистрация: 19-06-04
Из: Беларусь
Пользователь №: 65



Поделитесь, пожалуйста, впечатлениями от экспорта в IDF в EE2007. Улучшился ли он по сравнению с EE2005? Научился ли хотя бы корректно экспортировать несколько placement outline в одной cell?

Опс, наверное не дочитал матчасть, смотрю на пример библиотеки IDF 3.0 и закрадывается смутное сомнение, что сам формат не поддерживает разные высоты в одном компоненте. Это так?
Go to the top of the page
 
+Quote Post
 
Start new topic
Ответов
cioma
сообщение Jun 27 2008, 07:32
Сообщение #2


Профессионал
*****

Группа: Свой
Сообщений: 1 226
Регистрация: 19-06-04
Из: Беларусь
Пользователь №: 65



Почитал наконец сам стандарт IDF 3.0 (www.simplifiedsolutionsinc.com) smile.gif
Компоненты действительно представляются замкнутым контуром из линий и дуг с одним свойством высоты. Т.е сам формат не позволяет иметь разные высоты для обного компонента и Expedition генерит все в соответствии со стандартом.

Похоже, IDF 4.0 позволяет получить то что я хочу, но возникает следующий вопрос: как обстоят дела с экспортом из Expedition в IDF 4.0? Есть ли он в EE2007? Если нет то планируется ли его реализовать?

а вот и ответ smile.gif
http://forums.mugweb.org/showflat.php?Cat=...h=true#Post3958
Go to the top of the page
 
+Quote Post



Reply to this topicStart new topic
1 чел. читают эту тему (гостей: 1, скрытых пользователей: 0)
Пользователей: 0

 


RSS Текстовая версия Сейчас: 28th July 2025 - 05:34
Рейтинг@Mail.ru


Страница сгенерированна за 0.01372 секунд с 7
ELECTRONIX ©2004-2016