Цитата(DS @ Jul 11 2008, 18:59)

Насколько я понимаю, 0.13 мкм - это Рэлеевский предел разрешения фотолитографического оборудования. Реально все элементы должны быть больше.
Поэтому для получения более мелких фотоизображений используют фотошаблоны с внесенными в картинку предъискажениями с учетом необходимых дифракции и интерференции. Например, в углы прямоугольников вписывают небольшие квадраты. Так, чтобы в результате засветки получился изначальный прямоугольник.
45нм - серийно выпускаемая продукция. Это фотолитография, жесткий УФ.
А есть еще и рентген..
Типивое расстояние между истоком и стоком для транзистора, изготавливаемого по 0.18мкм (длина затвора из поликремния) , уже около 0.1мкм.
Когда говорят о техпроцессе, например, 0.13мкм, то подразумевают как раз воспроизводимость минимального размера любого элемента на фотошаблоне. Реальный поликремний будет полоской около 0.13мкм. Плюс-минус на припуски и растрав.