Подскажите литературу по технологиям изготовления ИС Опции

[BarsMonster]

Добрый день, подскажите электронную литературу по изготовлению ИС на русском/английском языках - все что ниже VHDL вплоть(и особенно) до собственно самого процесса промышленного изготовления - фоторезисты, маски, легирование, металлизация, корпусировка.

Для саморазвития. До уровня VHDL/ПЛИС рабочие схемы проектировал уже.

[BarsMonster]

Первое прочитал, по второму пока только презентации посмотрел, буду дальше искать. В целом нашлись ответы на многие вопросы.

А можно ли где найти описание самих технологий, в том числе с сапфировыми(и прочими не-полупроводниковыми) подложками и транзисторах на стекле? (т.е. сама химия и физика техпроцесса, а не просто "вот маска, вот фоторезист, светим, травим - получаются дырки в SiO2")
(Понятно что 28нм нигде не опишут)

Сообщение отредактировал BarsMonster - Mar 11 2010, 15:05

[SM]

А можно ли где найти описание самих технологий, в том числе с сапфировыми(и прочими не-полупроводниковыми) подложками и транзисторах на стекле?

Там основное отличие в производстве пластины (кремний на стекле, на сапфире, или классика SOI - кремний-оксид-кремний), а технология по сути та же, только изоляция между отдельных устройств (транзисторов) - оксид насквозь до диэлесктрика.

[BarsMonster]

не 100% по предмету, но для начинающих по ASIC.
Ap plication-Spe cific Integ rated Circuits. 1997. M J S Smith.

html версия (ну естественно вопреки всяких IP) здесь http://iroi.seu.edu.cn/books/asics/ASICs.htm#anchor11320
если поискать есть в сети и пдф

Посмотрел, по FPGA интересно, о самом низком уровне меньше информации чем то что выше предлагали, видимо сказывается развитие средств автоматизированного проектирования :-)

Там основное отличие в производстве пластины (кремний на стекле, на сапфире, или классика SOI - кремний-оксид-кремний), а технология по сути та же, только изоляция между отдельных устройств (транзисторов) - оксид насквозь до диэлесктрика.

В этом главный вопрос - как получается тонкий слой монокристаллического кремния :-) Не приклеивают же :-)

В общем интересует вся доступная для простого смертного физика и химия процесса (требования по чистоте/состоянию кристалла, как сильно легируют и как именно, какие фоторезисты применяют, чем проявляют/травят, как фотомаски печатают, описание разных типов литографического оборудования(например интересна оптическая схема проекционной литографической установки)), с теорией разработки все достаточно понятно (т.е. как из нужной схемы получить нужные маски).

Сообщение отредактировал BarsMonster - Mar 15 2010, 23:09