Кое-что удалось прояснить. Реакция шейпов на разные вкрапления регулируется в настройках проекта. Shape -> Global Dynamic Shape Parameters -> вкладка Clearances. Там может быть установка для VIA либо DRC, либо thermal/anti. В первом случае освобождение управляется через CM, во втором случае - берется из настроек падстека отверстия. У меня стояло DRC, поэтому на изменение подстека не реагировало. После замены на thermal/anti стало реагировать.
Но я подумал, что все таки в CM правильнее управлять этим зазором. По смыслу то этот зазор в слое питания есть защита от неточного позиционирования сверла, и он может меняться, если при одном и том же падстеке изменить диаметр сверла. Каждый раз перерисовывать все слои падстека труднее, чем в одном месте поменять диаметр сверла.
Теперь вот стало так - зазор появился.
Сообщение отредактировал Hoodwin - Dec 20 2010, 19:07
Эскизы прикрепленных изображений