Помогите разобраться с общей схемой маршрута проектирования. В литературе не встретил ясной схемы с чётко понятной последовательностью этапов, возможно, подскажете, где её можно найти.
На данный момент прочтено:
- глава о маршруте в "Системы-на-кристалле. Проектирование и развитие" Немудрова и Мартина;
- статья Бухтеева "Методы и средства проектирования систем на кристалле";
- статьи сотрудников ФГУП РНИИКП и НПП "Цифровые решения" "Проектирование СБИС типа система на кристалле. Маршрут проектирования".
Я правильно понимаю, что в ходе проектирования СБИС проходятся 4 этапа верификации: моделирование на поведенческом уровне в САПР, моделирование топологии в САПР с учётом паразитных нагрузок от межсоединений, макетирование в ПЛИС и верификация макетного образца СБИС? На какой из этапов приходится возвращаться при неудовлетворительных результатах верификации? Насколько достоверно макетирование в ПЛИС отражает работу будущей СБИС? Насколько сокращает сроки и стоимость проектирования применение макетирования в ПЛИС?
Спасибо!
Сообщение отредактировал Dremlin - Jun 18 2011, 04:22